Элементная структура, образовавшего

Элементная структура, образовавшегося покрытия в искусственно созданном дефекте, соответствует пленке сформировавшейся на неповрежденной поверхности, но с более высоким содержанием Si и Cr.

Результаты (английский) 1:

Cell structure formed artificially created defect coverage corresponds to the film formed on the surface intact, but with a higher content of Si and Cr.

Результаты (английский) 2:

Element structures formed in the artificial coating defect corresponds to the film formed on the surface undamaged, but with higher content of Si and Cr.